本技術(shù)涉及掩膜版轉(zhuǎn)運(yùn),具體而言,涉及一種掩膜版預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置。、在半導(dǎo)體光刻工藝中,掩膜版預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置是保障曝光精度的關(guān)鍵設(shè)備,其核心功能是在掩膜版進(jìn)入光刻機(jī)掩膜臺(tái)之前,通過初步定位與姿態(tài)調(diào)整,將掩膜版的偏移量控制在后續(xù)粗對(duì)準(zhǔn)和精對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)的可調(diào)節(jié)范圍內(nèi),從而提高整體曝光效率和良率。、現(xiàn)有的預(yù)對(duì)準(zhǔn)...