使用雙釋放層的功能納米顆粒的納米壓印光刻形成相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求2010年11月5日提交的,申請(qǐng)?zhí)枮?1/410,632的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán),將該申請(qǐng)通過(guò)援引納入于此。背景信息納米制造包括制造具有在100納米或更小量級(jí)上的特征的非常小的結(jié)構(gòu)。盡管在集成電路行業(yè)內(nèi)被熟知,納米制造技術(shù)可應(yīng)用...