本公開涉及光刻,尤其是一種光源的確定方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。、在光刻工藝的套刻步驟中,需要利用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(alignment?mark)將掩膜版上的圖形和晶圓上已存在的圖形對(duì)準(zhǔn)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、相關(guān)技術(shù)中,光刻機(jī)的對(duì)準(zhǔn)性能較差,導(dǎo)致晶圓的良率差。、經(jīng)過分析發(fā)現(xiàn),相關(guān)技術(shù)中在粗對(duì)準(zhǔn)(co...